當前位置:首頁 > 產(chǎn)品中心 > 氣體發(fā)生器 > 氮氣發(fā)生器 > 丹麥進口Flairmo島津SHIMADZU LCMS-2020 氮氣發(fā)生器
簡要描述:島津SHIMADZU LCMS-2020 氮氣發(fā)生器2010年Flairmo*實驗室空壓機問世,基于在氣體制造及純化技術上建立起來的強大技術團隊和專業(yè)知識背景,F(xiàn)lairmo 不斷開展對空氣分離技術的開發(fā)及創(chuàng)造性研究工作,現(xiàn)已成功發(fā)展成為現(xiàn)今世界上重要的氣體發(fā)生器制造商之一。公司總部設在丹麥奧爾堡。10多年來, Flairmo一直從事壓縮機和氮氣發(fā)生器的制造。
詳細介紹
島津SHIMADZU LCMS-2020 氮氣發(fā)生器
2010年Flairmo*實驗室空壓機問世,基于在氣體制造及純化技術上建立起來的強大技術團隊和專業(yè)知識背景,F(xiàn)lairmo 不斷開展對空氣分離技術的開發(fā)及創(chuàng)造性研究工作,現(xiàn)已成功發(fā)展成為現(xiàn)今世界上重要的氣體發(fā)生器制造商之一。公司總部設在丹麥奧爾堡。10多年來Flairmo一直從事壓縮機和氮氣發(fā)生器的制造,產(chǎn)品滿足各類實驗室、科學儀器對高純氫氣、高純氮氣、零級空氣、大流量氮氣等氣體的需求,涉及醫(yī)療,實驗室,食品,工業(yè)等各個行業(yè)。
型號:N2G 40 – A200.6
氮氣純度99.5%,流量40L/min,內置空壓機,壁掛式/柜式箱體,整套系統(tǒng)占地面積不超過0.4平方米,質譜配套氮氣發(fā)生器。適配Agilent安捷倫,Thermo Fisher賽默飛,AB SCIEX,沃特世Waters ,布魯克 Bruker,島津Shimadzu,PerkinElmer珀金埃爾默等品牌液質聯(lián)用儀LC-MS。
提供3年10000小時質保服務。
所用技術 PSA
流速 40 SLPM
出口壓力 0 到 7 barg / 0 到 100 psig
空壓機 內置
操作環(huán)境溫度 5°C 到40°C
工作環(huán)境濕度 相對濕度≤ 70% , 不冷凝
高海拔 2000 米
尺寸 (長x寬x高 ): 615 x 630 x 860 mm
重量:110 kg
島津SHIMADZU LCMS-2020 氮氣發(fā)生器
丹麥Flairmo*氮氣發(fā)生器專門為LCMS設計,采用*進的PSA技術,將空氣壓縮機里的氣體導入碳分子篩,氧氣、二氧化碳、水份及其他雜質在通過碳分子篩時被除去,只允許氮氣通過碳分子篩并進入蓄氣池,在蓄氣池里進行壓力和流速的調節(jié)后就可以與用氣設備相連。
Flairmo N2G40-A200.6系列氮氣發(fā)生器高配機型內置氧濃度分析儀,可以實現(xiàn)純度在線顯示,報警等功能,并且可以用手機APP或者電腦程序實施遠程監(jiān)測,機器的內部控制結合氧濃度分析儀實現(xiàn)純度的真正可選可控,只會產(chǎn)出我們設定好需要的氮氣。
Flairmo N2G40-A200.6系列氮氣發(fā)生器配備了LCD 觸摸顯示屏可以方便查看機器狀態(tài)和記錄,如開機次數(shù),運行時間,純度設置,純度報警,維修服務提醒等等。
與采用中空纖維膜技術對比
1、碳分子篩技術可實現(xiàn)自我凈化,不僅有效去除雜質和碳氫化合物,而且得到的氮氣純度更高,這就是為什么所有廠家氣相用氮氣發(fā)生器(因為純度要求達到99.999%)全部采用碳分子篩技術而不是膜分離技術。
2、膜分離技術,根據(jù)不同氣體在通過膜時的滲透屬性不同,將空氣中的氮氣分離出來,但通過膜的壓縮空氣即使之前經(jīng)過凈化也會存在一定的雜質和碳氫化合物,這些雜質會附著在膜上而不會*排除,在空氣濕度大的地方,膜的分離效率會不斷降低,純度和流速會逐漸降低.
3、碳分子篩技術更適宜于潮濕的空氣環(huán)境和高溫天氣;
島津LCMS-2020三重四極桿液質聯(lián)用儀
描述:
LC/MS (Prominence UFLC + LCMS -2020 )提高了HPLC分析的速度,使實驗室分析效率顯著提高。
LCMS-2020通過以下特點,匹配LC分析:
UFswitching(速正/負離子切換):為了同時檢測正離子和負離子,檢測在正負離子模式間交替切換。LCMS -2020。
UFscanning (速掃描):掃描速度取決于m / z比,它是通過加在四極桿上的電壓控制的。通過采用專*的新技術,即使在高速掃描時,也可以在不靈敏度或分辨率的獲取高離子通過性。
UFsensitivity (依靠新研發(fā)的離子光學獲取超靈敏度和重復性):采用新研發(fā)的Qarray®光學,重現(xiàn)性和線性。
現(xiàn)在,UFLC/MS的出現(xiàn)延續(xù)了LC(Prominence UFLC)高數(shù)據(jù)的能力。
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